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LOGO2008作品征集反响强烈 作品接受时间延至春节

时间:2009-01-05 16:34:47 来源:中国艺术投资网 编辑:中国艺术投资网 阅读: 手机版

 

  CCII798国际创意设计周活动于2008年圣诞前夕在CCII798国际设计馆隆重开幕,作为此次展览活动主要内容之一的国际商标标志双年奖展汇聚了LOGO1998、LOGO2000、LOGO2002、LOGO2004、LOGO2006五届国际商标节的获奖作品。展览开幕之后,得到了设计创意界、各大媒体、艺术机构以及艺术院校的广泛关注。展览期间前来参观展览的海内外设计师们要求延长LOGO2008的作品征集的时间,经组委会研究决定2008国际商标标志双年奖作品征集活动的截至时间由原来的2008年12月31日延至春节,北京参赛作品可直接提交至CCII798国际设计馆,外地参赛作品可邮寄至北京市朝阳区酒仙桥北路2号A01写字楼北楼307室(100015)。

  本届双年奖所有参赛作品创作时间限定为2004年至2008年,获奖作品将入选《LOGO2008国际商标标志双年奖年鉴》,并将在国际设计网及相关的宣传资料中刊登。评选结束后,作品将随ADC获奖作品在全国20多个城市巡回展出,更将通过ICOGRADA在各国的设计组织与其他国家进行设计交流展览。

  两年一度的国际商标标志双年奖是ICOGRADA认可的国际性设计奖项,也是商标节的重要活动之一。历届评审团均由国际著名设计大师组成,其中有ICOGRADA前主席海尔穆特·朗格、AGI前主席石汉瑞、美国分会主席斯蒂夫·盖斯布勒、瑞士分会主席尼古拉斯·特罗斯勒、法国AGI成员吕迪·鲍尔、中国AGI会员余秉楠、靳埭强、阿根廷平面协会主席巴布罗·康斯特、香港设计师协会前任主席刘小康、纽约艺术指导协会(ADC)评委王序等。本次展览展出的是前5届国际商标节的获奖作品, CCII798国际创意设计周展览活动现在火爆进行中,在此活动组委会诚邀CCII理事、特邀嘉宾、会员、学员以及关注ADC、关注CCII的设计界、企业界、媒体界的朋友们前来参观,展览将于2009年1月20日闭幕。

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